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CVD系統(tǒng)的構(gòu)成以及用途
作者:河南鴻爐 來(lái)源：原創(chuàng) 發(fā)表時(shí)間：2016-06-29 09:04:46
CVD系統(tǒng)是由高溫真空管式爐、氣路和真空系統(tǒng)組成。
CVD系統(tǒng)是Chemical Vapor Deposition的簡(jiǎn)稱(chēng)，是指高溫下的氣相反應(yīng)，例如，金屬鹵化物、有機(jī)金屬、碳?xì)浠衔锏鹊臒岱纸猓瑲溥€原或使它的混合氣體在高溫下發(fā)生化學(xué)反應(yīng)以析出金屬、氧化物、碳化物等無(wú)機(jī)材料的方法。這種技術(shù)最初是作為涂層的手段而開(kāi)發(fā)的，但不只應(yīng)用于耐熱物質(zhì)的涂層，而且應(yīng)用于高純度金屬的精制、粉末合成、半導(dǎo)體薄膜等，是一個(gè)頗具特征的技術(shù)領(lǐng)域。
其技術(shù)特征在于：⑴高熔點(diǎn)物質(zhì)能夠在低溫下合成；⑵析出物質(zhì)的形態(tài)在單晶、多晶、晶須、粉末、薄膜等多種；⑶不僅可以在基片上進(jìn)行涂層，而且可以在粉體表面涂層等，特別是在低溫下可以合成高熔點(diǎn)物質(zhì)，在節(jié)能方面做出了貢獻(xiàn)，作為一種新技術(shù)是大有前途的。
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